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ICP8000 b電感耦合等離子體發射光譜儀
所屬分類：
電感耦合等離子體發射光譜儀（ICP-OES）是一種常量、微量和痕量無機元素同時分析的儀器。其首先利用ICP光源使試樣蒸發汽化，離解或分解為原子狀態，原子可能進一步電離成離子狀態，原子及離子在光源中激發發光；再利用光譜儀器將光源發射的光分解為按波長排列的光譜；最后使用光電器件檢測光譜，按測定得到的光譜波長對試樣進行定性分析，按發射光強度進行定量分析。設備廣泛應用于水質、土壤、大氣顆粒物、固廢、食品、動植物、食品接觸材料、化妝品、電池材料、半導體、高純材料、石油化工、工業品、紡織等領域，且符合相關國家標準分析方法的要求。
ICP-OES歷經了半個世紀的發展，不斷推陳出現，升級換代。早期的商業化的ICP-OES產品主要以它激式電源產生等離子火焰，以光電倍增管作為檢測器，進行光譜采集。隨著技術的進步和半導體器件的快速發展，第二代ICP-OES主要以自激式射頻電源作為發生器，以CID、CCD、CMOS等光電轉換器作為采集單元，進行全譜采集。秉承“未來實驗室探索者”的責任與使命，創想儀器經過多年的技術積累與潛心研發，打造出性能可靠的ICP 8000，在RF射頻電源、大面陣檢測器應用、等離子炬焰觀測方式等核心技術方面形成質的飛躍，支持全譜高分辨率要求的稀土元素分析。
ICP 8000型全譜直讀型電感耦合等離子體發射光譜儀，具有突出的抗干擾和分析檢測性能，應用于研發、檢測等高端分析需求，可方便進行定性、半定量和精確定量分析，是常量、微量和痕量無機元素同時分析的理想儀器。
該產品在自激式全固態RF射頻電源、中階梯光柵二維分光系統、帶高效半導體制冷的科研級防溢出面陣CCD檢測器、垂直矩管雙向觀測模式，全譜實時校正等核心技術方面形成新的飛躍。
ICP 8000電感耦合等離子體發射光譜儀是創想儀器基于多年光譜類儀器開發經驗推出的一款全新的全譜直讀型ICP-OES產品，統一了高可靠性的射頻電源、穩固的恒溫二維分光系統、帶高效半導體制冷的科研級防溢出面陣CCD檢測器、易用的炬室與進樣系統，結合獨創的光譜校正技術，致力于為用戶帶來穩定的性能和良好的使用體驗。產品具體特點如下：
（1）ICP 8000 ICP-OES嚴格按照計量器具生產標準進行質量管控，完全符合《JJG768-2005發射光譜儀檢定規程》，經權威機構檢定，各項指標均優于標準要求。
（2）安全可靠的固態射頻電源儀器采用的射頻電源,具有體積小、輸出效率高、輸出功率穩定,帶水路、氣路及過載等各類安全保護功能,大大提升儀器的安全性。
（3）具有50000條以上的譜線庫，每條譜線至少可以選擇30個象素點進行測量。
（4）具有同時記錄所有元素譜線全譜數據采集功能，數據可安全存儲，支持分析數據保存和檢索功能，方便日后再分析。
（5）具有多種干擾校正方法和實時背景扣除功能：如標準比較法、內標法、干擾元素校正系數法、標準加入曲線法等，豐富了用戶多種分析研究的手段。
（6）圖形化操作界面，軟件操作方便、直觀，具有定性、半定量、定量分析功能。
（7）穩定可靠的全數字自激式全固態射頻電源，功率穩定性≤0.1%，RF頻率穩定性：≤0.1%。
（8）穩定經典的光學系統：使用中階梯光柵多色儀（石英）對等離子體中生成的分析物發射譜線進行分離并在檢測器上聚焦，以便進行測量。采用當今主流的中階梯光柵光學結構的三維光學影像，與固態檢測器 X-Y 像素陣列的完美結合。等離子體中生成的光學發射譜線通過前置光路進入入射狹縫（或者某些情況下，依次通過多條入射狹縫），然后聚焦到衍射光柵上。光柵反射的各種衍射級基本上是疊加的，并且經過棱鏡分光，產生了兩維中階梯光柵圖像。能夠獲得單一的中階梯光柵圖像并投射到單一的檢測器上，從而帶來出色的分析速度、精密度和準確性。無需采用需要進行單獨順序測量的多個檢測器或多個入射狹縫光學元件，即可實現全波長覆蓋，并且大大減少了分析時間。
（9）儀器采用快速恒溫的熱平衡全密閉光室，是儀器穩定的基石。
（10）基于流體力學仿真的分布式密封充氬設計，使光學系統快速建立高純氬氣氛圍，實現紫外分析，省時省氬氣。
（11）檢測器：帶高效半導體制冷的科研級防溢出面陣CCD檢測器。
（12）像元級制冷：高效半導體制冷（三級TEC），制冷溫度可達-45℃，啟動時間：＜3分鐘。
（13）防飽和溢出：針對每一個像素進行防飽和溢出保護，徹底消除譜線飽和溢出問題。
（14）高精度的氣流控制：儀器工作中的等離子氣、輔助氣、載氣采用高精度的質量流量機來控制,具有流量連續可調、輸出氣流的精度高，保證測試數據的準確性。
（15）智能化的火焰監視功能：儀器配置了靈敏度高的光纖傳感器,可在儀器工作狀態下,實時監測火焰的工作情況,如遇異常情況可自動關閉儀器。
（16）豐富的處理技術，支持標準加入法、內標法、半定量、干擾元素校正等分析方法。
（17）強大的擴展功能，能夠與自動進樣、順序進樣、數據庫系統對接，適合現代實驗室的分析測試需求。
（18）全面智能的軟件算法和數據接口：擁有50000多條譜線的標準譜線數據庫，方便用戶選擇更合適的分析譜線，減少譜線干擾。
（19）自動校正特征譜線位置：軟件自主研發的自動校峰算法，方法基于三坐標映射可快速標定二維光譜波長，無需重復校峰操作。
（20）全自動點火及匹配技術：軟件全自動一鍵點火,所有的參數設置變化均自動完成。配合先進的自動匹配技術,點火成功率高,操作簡便。
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基本信息 |
品牌 |
創想儀器 |
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產地 |
江蘇無錫 |
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規格型號 |
ICP 8000 |
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性能指標 |
檢測器 |
帶高效半導體制冷的科研級防溢出面陣CCD檢測器 |
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光學系統 |
穩定高效的全固定中階梯光柵分光系統 |
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波長范圍 |
165-1000nm，全波長覆蓋 |
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光學分辨率 |
≤7pm @200 nm |
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等離子體觀察方式 |
水平炬管雙向觀測 |
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頻率 |
27.12MHZ |
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射頻發生器功率范圍 |
600-1600W，連續可調，最大可達1600W |
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RF功率穩定性 |
≤0.1% |
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RF頻率穩定性 |
≤0.1% |
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分析速度 |
約每分鐘200條譜線 |
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測定譜線的線性動態范圍 |
≥105 |
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精密度 |
測定1ppm多元素混合標準溶液（Ba、Zn、Ni、Cr、Mn、Cu），重復測定10次的RSD≤0.5% |
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穩定性 |
測定1ppm多元素混合標準溶液（Ba、Zn、Ni、Cr、Mn、Cu），連續測定4小時的長時間穩定性RSD≤1.0% |
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工作環境條件 |
電源 |
五組單相 (220±22) V |
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環境溫度 |
10-30℃ |
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環境濕度 |
20%～80％ |
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儀器軟件 |
軟件性能 |
圖形化操作界面，軟件操作方便、直觀，具有定性、半定量、定量分析功能 |
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具有50000條以上的譜線庫，每條譜線至少可以選擇30個象素點進行測量 |
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具有多種干擾校正方法和實時背景扣除功能：如標準比較法、內標法、干擾元素校正系數法、標準加入曲線法 |
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